技術文章

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    • 20243-15
      科探分子泵組的優勢有哪些

      科探標準復合分子泵機組作為清潔高真空獲得設備,具有一系列顯著的優勢。以下是對其優勢的詳細分析:高真空度:復合分子泵機組利用機械泵和渦輪分子泵的組合,能夠在短時間內達到真空度。這種高真空環境對于許多科學實驗和工業生產過程至關重要,如表面分析、加速器技術、等離子體技術等。快速啟動:該設備具有快速的啟動時間,這意味著用戶可以更快地開始實驗或生產過程,提高工作效率。操作簡便:復合分子泵機組設計合理,操作界面直觀,使得用戶能夠輕松掌握設備的操作方法。同時,設備維護也相對簡單,降低了使用...

    • 20242-28
      石英管真空封管機選購要注意哪些

      石英管真空封管機,是一種專門用于將樣品放入石英管內進行真空密封保存的設備。它采用動密封技術,讓石英管在自動旋轉的同時進行抽真空、充氣氛封裝,從而實現對樣品的無氧無水真空密封保存。石英管真空封管機主要由是有封管機+氫氧機火焰機+真空泵組成。其中,真空封管機是實現石英管抽真空和密封的關鍵設備,氫氧機則通過電解水技術產生氫氧火焰,用于對石英管進行快速熔封,而真空泵則用于對石英管進行抽真空操作。那么購買石英管真空封管機應該注意哪些點呢?1、氣密性:作為真空密封的設備,首先是要有好的氣...

    • 20242-4
      規管清洗保養

      冷陰極規管經長時間使用或在高油蒸汽的環境中工作后,會在電極表面形成褐色的碳化物,此污染物會影響規管的正常工作狀態。會引起啟動困難和測量誤差。當規管使用較長時間或出現上述問題時,應該對規管進行清洗保養。先按下圖拆下電極,然后用0號砂紙對電極表面的褐色碳化物進行清除,直至全部去除為止,然后用丙酮輕輕擦除干凈。按順序裝回電極,擰緊。注:拆下電極后,清洗前一定要先拆下探針,以免弄壞探針和損傷手指,清洗完成,裝回電極時,應當帶上細沙手套,保持電極的清潔。

    • 20241-26
      電感耦合和電容耦合的區別和應用場景

      1.電感耦合(InductivelyCoupledPlasma,ICP):電感耦合等離子體是通過高頻磁場與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電感耦合的過程中,高頻電流通過螺線管產生高頻磁場,高頻磁場切割等離子體產生渦旋電流,從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優點是穩定性好,能量傳遞高效,適用于高密度等離子體的產生,廣泛應用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領域。2.電容耦合(CapacitivelyCoupledPlasma,CCP):電容耦合等離子體是通過交變電場與等離子體...

    • 20241-26
      中頻和射頻等離子清洗機之間的主要區別是

      1.工作頻率:40KHz等離子清洗機的工作頻率為40千赫(40,000赫茲),而13.56MHz等離子清洗機的工作頻率為13.56兆赫(13,560,000赫茲)。工作頻率不同會導致設備清洗效果和適用范圍上的差異。2.清洗效果:40KHz的低頻等離子清洗對于大多數材料都可以達到較好的清洗效果,但對于一些微米或亞微米級別的顆粒或污染物去除效果可能不佳。而13.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒尺寸較小的污染物方面具有更高的功效,能夠提供更*的清洗效果。3.清洗速度:13.56...

    • 20241-23
      真空冷阱表面為什么會有水

      1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來說,空氣主要由氮氣、氧氣和少量其他氣體組成。在標準大氣壓下(約為1個大氣壓,相當于101.325千帕),液態氮的沸點約為-196攝氏度(-321華氏度),液態氧的沸點約為-183攝氏度(-297華氏度)。因此,空氣的液化溫度應該在這兩個溫度之間。請注意,這些數值是在標準條件下給出的,實際情況可能會受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當空氣的溫度降低到液氮的沸點-196攝氏度(-321華氏度)以下時,氮氣成分會開始液化,從氣體狀...

    • 20241-16
      晶振片故障現象、原因及解決辦法

      探頭故障現象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數大跳變a.不良晶片產生解決方案:更換晶片b.晶片接近其使用壽命解決方案:更換晶片c.晶片支承座表面有雜物解決方案:用酒精或細砂皮清洗支承座d.來自濺射源的頻率干涉解決方案:檢查接地,儀器遠離濺射源2、沉積期間晶體停振,但晶片壽命未到a.晶片被來自鍍膜源熔化材料小熔滴撞擊解決方案:鍍膜起始階段用檔板遮蔽后移開b.不良晶片解決方案:更換晶片c.晶片支承座內腔表面有雜質解決方案:清洗3、晶體在真空中振蕩,單暴露空氣后停振a.晶體接近使...

    • 20241-8
      直流負壓濺射和直流濺射有什么區別

      直流負壓濺射和直流濺射在直流濺射中,帶正電的離子被吸引到接地的、帶負電的濺射靶上,從靶材上濺射出原子,然后這些原子在樣品(也稱為襯底)上沉積形成薄膜。通常情況下,濺射靶被接到正極,而樣品端(襯底)被接到負極或接地。然而,有些情況下(如反濺射或偏壓濺射),樣品端會被接到正極以吸引多余的離子,從而實現清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜和基底的結合強度。這種電源連接方式可以提高薄膜的層內應力,改善其結晶性能,以及提高薄膜沉積效率。這種操作需要一定的注意事項,因為樣品端上高電壓可能會...

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