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    plasma離子清洗機射頻電源

    產品簡介

    plasma離子清洗機射頻電源,不同氣體的等離子體具有不同的化學性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果。

    產品型號:KT-S2DQX
    更新時間:2024-03-29
    廠商性質:生產廠家
    訪問量:1456
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    品牌鄭科探產地類別國產
    應用領域綜合

    plasma離子清洗機射頻電源

    等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。



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    plasma離子清洗機射頻電源

    供電電源

    AC220V(AC110V可選)

    工作電流

    整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)

    射頻電源功率

    150W

    射頻頻率

    13.56MHz

    頻率偏移量

    <0.2MHz

    特性阻抗

    50歐姆,手動匹配

    耦合方式

    電容耦合

    真空度

    ≤50Pa

    腔體材質

    高純石英

    腔體容積

    2L(內徑110MMX深度220MM)

    觀察窗內徑

    Φ50

    氣體流量

    0—50ml/min(其他量程可選)

    過程控制

    過程手動控制

    清洗時間

    手動開關

    開蓋方式

    鉸鏈側開式法蘭

    外形尺寸

    450x450x360mm

    重量

    23Kg

    真空室溫度

    小于65°C

    冷卻方式

    強制風冷

    標配

    KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹鋼網匣1個,電源線一根,說明書一本。










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