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    當前位置:首頁產品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD桌面式濺射儀

    桌面式濺射儀

    產品簡介

    桌面式濺射儀KT-Z1650PVD是一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統。體積小巧,但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶,自動樣品擋板,可調節濺射源距離,觸摸屏控制,工藝儲存等功能,方便快捷。

    產品型號:KT-Z1650PVD
    更新時間:2024-03-27
    廠商性質:生產廠家
    訪問量:1495
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    品牌鄭科探濺射氣體根據需求通氣
    樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
    樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
    靶材材質金 鉑 銅 銀 等價格區間面議
    產地類別國產應用領域化工,電氣

    桌面式濺射儀KT-Z1650PVD水冷式濺射源,可實現高功率持續運行,有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

         電子電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛倫茲力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區域內,該區域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長。


    微信圖片_20220525093925.png

    桌面式濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數;

    控制方式

    7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

    濺射電源

    直流濺射電源

    鍍膜功能

    0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

    功率

    ≤1000W

    輸出電壓電流

    電壓≤1000V  電流≤1A

    真空

    機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

    濺射真空

    ≤30Pa

    擋板類型

    電控

    真空腔室

    石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

    樣品臺

    可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

    樣品臺轉速

    8轉/分鐘

    樣品濺射源調節距離

    40-105mm

    真空測量

    皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

    預留真空接口

    KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




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